2016年7月14日，工学院拟购的“紫外光刻机”购置可行性论证会在工学院力学楼434会议室召开，会议由工学院党委书记、副院长孙智利主持。

拟购的“紫外光刻机”是一种通过曝光的方法将掩模上图形转移到涂覆于硅片表面的光刻胶上，然后通过显影、刻蚀等工艺将图形转移到硅片上的设备。该系统由主机、曝光系统、显微对准系统、对准台及芯片与掩膜版夹持器组成。目前校内同类设备使用机时饱满。拟购设备各项指标先进，满足申请人的科研需求。专家组根据申请人课题组目前正在承担的先进微纳制造技术研究的需要，认为拟购设备将用于大面积制备微纳米尺度的微流控、表面微结构模板结构等，是微纳米加工工艺的基础，设备的购置有助于完善微纳米加工工艺，对本学科领域的微纳米结构制备具有不可替代的作用。该设备还可与三维激光直写设备相结合，实现二维刻写与三维直写技术混合的特种加工工艺，构成完整的微纳米加工平台。设备的购置符合北京市创新重大专项目标及高精尖中心的发展战略。

“紫外光刻机”的购置由工学院段慧玲教授申请，经费来源为“北京市高精尖中心”经费。设备购置经费已落实，运行经费有保障，专家组一致同意通过“紫外光刻机”的可行性论证。设备购置后将作为北京大学高精尖中心的公共测试设备，预计年使用机时为3000小时左右。可行性论证专家组由清华大学物理系富士康纳米中心李群庆研究员、微电子所伍晓明副教授、刘朋副教授，北京大学信科学院胡又凡特聘研究员、岳双林高级工程师组成。