2011年9月8日，信息学院拟购的“原子层沉积系统”和“激光脉冲沉积系统”购置论证会在实验室与设备管理部会议室召开，会议由实验室与设备管理部副部长刘克新教授主持。

原子层沉积系统广泛应用于栅氧化物和电极材料等微电子材料的制备中，尤其适合在三维结构衬底上制备高质量纳米薄膜材料。激光脉冲沉积系统是一种使用灵活、方便、高效的制膜设备，制备的薄膜材料种类广泛，非常适合用来微电子材料方面进行筛选研究工作，可以有效缩短新型材料开发周期，是微电子薄膜材料研究的有力工具。目前校内物理学院、信息学院有多台同类设备，但机时较满。专家组根据申请人在开展先进微电子材料和器件研究方面的需要，认为拟购置的两台设备是先进微电子器件制备等方面研究的关键设备之一，且购置经费已落实，运行经费有保障，一致同意通过“原子层沉积系统”和“激光脉冲沉积系统”的可行性论证。设备购置后将在满足申请人课题组科研需要的同时对校内外开放使用。

“原子层沉积系统”和“激光脉冲沉积系统”由信息学院刘力锋副教授申请，经费来源为重大专项经费。可行性论证专家组由中科院微电子所侯瑞兵研究员，北京大学信息学院梁学磊教授、刘晓彦教授，物理学院韩景智高级工程师、聂瑞娟高级工程师组成。