2013年5月7日，物理学院拟购的“脉冲激光与磁控溅射双模式沉积系统”购置论证会在实验室与设备管理部会议室召开，会议由设备部副部长刘克新教授主持。

“脉冲激光与磁控溅射双模式沉积系统”由物理学院吕国伟副教授申请购置，经费来源为人工微结构与介观物理国家重点实验室设备费。拟购设备集成了激光脉冲沉积和磁控溅射沉积两种工作模式，采用外延室和进样室分离的结构，能保证超高真空外延生长环境，同时具有样品载入锁定功能，能够与RHEED表面诊断技术相结合在原子级别控制薄膜生长，可以制备出性能优异的复合薄膜材料。目前校内同类设备不能满足申请人的技术需求。专家组根据申请人开展微纳米尺度的光物理研究的需要，认为该仪器是制备纳米复合薄膜的关键设备之一，对北京大学在微纳光子学及相关光子学器件研究方面将发挥重要作用。

该仪器设备购置经费已落实，运行经费有保障，专家组一致同意通过“脉冲激光与磁控溅射双模式沉积系统”的可行性论证。设备购置后将在满足申请人课题组科研需要的同时对校内外开放使用。可行性论证专家组由中科院物理所王文新研究员、半导体所郑婉华研究员，北京大学物理学院连贵君教授级高工、杨金波教授及化学学院施祖进教授组成。