2018年11月12日，信息学院拟购的“紫外曝光机”购置可行性论证会在信息学院微纳加工实验室会议室举行，由信息学院科研办主任孙琰主持。

　　拟购的“紫外曝光机”是一种通过曝光的方法将掩模上图形转移到涂覆于硅片表面的光刻胶上，然后通过显影、刻蚀等工艺将图形转移到硅片上的设备。该系统由主机、曝光系统、显微对准系统、对准台及芯片与掩膜版夹持器组成。目前校内同类设备使用机时饱满，无法满足申请人的需求。专家组根据申请人研究需求，拟购设备可以实现亚微米级图形的曝光，满足申请人碳基集成电路研究的需求。仪器的购置将对北京大学碳基集成电路的研究发挥关键性作用。

　　专家组一致同意通过上述设备的可行性论证，设备的购置经费来源为“维修维护费”，由信息学院彭练矛教授申请购置。仪器设备购置经费已落实，运行经费有保障。设备购置后将用于碳管集成电路制备，预计年使用机时约为2000小时。可行性论证专家组由北京邮电大学理学院杨雷静副教授，中国科学院微电子研究所杨涛副研究员，北京大学信科学院岳双林高级工程师、黄珏华副教授、潘华勇副研究员组成。