2019年4月18日，信息学院拟购的“深硅刻蚀系统”购置可行性论证会在勺园5乙楼305会议室举行，由实验室与设备管理部副部长周勇义主持。

　　拟购的“深硅刻蚀系统”是一套利用射频电源生成等离子体，等离子体随后与被刻蚀的材料发生化学反应，生成的挥发性化合物被气流（真空系统）带走，而衬底材料由于被光刻胶（介质掩膜）所覆盖则没有产生上述化学反应，从而实现器件的各向异性的系统。目前校内同类设备机时饱满。专家组认为申请人所在实验室是北京大学微电子公共加工平台，常年承担着大批国家级重点科研项目，同时面向社会提供加工技术服务，深硅刻蚀技术是硅微/纳三维结构制造的关键工艺设备，也是微米/纳米加工技术的重要硬件支撑，拟购置的刻蚀系统工艺稳定性好、市场占有率高，满足申请人所在实验室MEMS器件芯片的高深宽比结构和纳尺度结构研制以及对外科研技术服务的需求。设备的购置将对北京大学微纳加工技术及研究有重要作用。

　　专家组一致同意通过上述设备的可行性论证，设备购置经费已落实，经费来源为“统筹支持一流大学与一流学科经费”，由信息学院张大成教授申请购置。仪器设备运行经费有保障。设备购置后将主要用于三维微米/纳米结构制备等科研工作，预计年使用机时为1800小时左右。可行性论证专家组由清华大学微电子所刘泽文教授、刘朋副教授，中科院微电子所夏洋研究员，中科院电子所王军波研究员，北京大学信息学院赵前程高级工程师组成。