2021年9月17日，物理学院拟购的“超高真空多靶磁控溅射镀膜系统”通过可行性论证。会议由实验室与设备管理部副部长周勇义主持。

　　拟购的“超高真空多靶磁控溅射镀膜系统”是一套在真空中利用荷能粒子轰击靶材表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上进行镀膜的系统。目前校内同类设备使用率高，机时饱满。专家组根据申请人团队研究需求，认为拟购设备可以生长高均匀性、高质量、高性能的磁性金属和氧化物等薄膜材料，满足申请人开展高性能磁电子器件研究的需求。该仪器的购置将对北京大学磁学的研究发挥关键性作用。

　　专家组一致同意通过上述设备的可行性论证，设备购置经费已落实，经费来源为“学科建设经费”和“科研经费”，由物理学院罗昭初助理教授申请。设备购置后将主要用于磁性材料制备等科研工作，预计年使用机时为2000小时。可行性论证专家组由复旦大学材料科学系崔继斋研究员，中国科学院物理研究所万蔡华副研究员，北京大学物理学院韩伟研究员、罗强高级工程师，信息学院岳双林高级工程师组成。