2011年4月1日，信息科学技术学院拟购的等离子增强化学气沉积系统与反应离子刻蚀系统、原子层淀积系统和溅射台等三台设备的购置论证会在实验室与设备管理部会议室召开，会议由实验室与设备管理部副部长刘克新教授主持。

化学气相沉积是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。等离子体增强化学气相沉积是利用等离子体的活性来促进反应，使化学反应能在较低的温度下进行。反应离子刻蚀过程同时兼有物理和化学两种作用，是超大规模集成电路工艺中很有发展前景的一种刻蚀方法。拟购的“等离子增强化学气沉积系统与反应离子刻蚀系统” 在均匀度、稳定性等综合技术指标方面先进，能够满足申请人的研究需要。

原子层淀积系统充分利用表面饱和反应，具备精确的厚度控制和高度的稳定性能。这样得到的薄膜既具有高纯度又具有高密度，既平整又具有高度的保型性。首先将第一种反应物引入反应室使之发生化学吸附，直至衬底表面达到饱和。过剩的反应物则被从系统中抽出清除，然后将第二种反应物放入反应室，使之和衬底上被吸附的物质发生反应。剩余的反应物和反应副产品将再次通过泵抽或惰性气体清除的方法清除干净，这样就可得到目标化合物的单层饱和表面。

溅射是物理气相沉积方法制备薄膜技术的一种，主要分为四大类：直流溅射、交流溅射、反应溅射和磁控溅射。磁控溅射是指电子在电场的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出氩离子和新的电子；新电子飞向基片，氩离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。申请人拟购的进口溅射台所使用的射频和直流电源的稳

目前我校信息学院、物理学院拥有多台同类设备，使用效率较高，机时饱满。专家组根据申请人开展液晶显示研究的需要，认为上述三套设备是平板显示研究中必须的关键设备，且设备购置经费已落实，运行经费有保障，一致同意通过上述三套设备的可行性论证。

等离子增强化学气沉积系统与反应离子刻蚀系统、原子层淀积系统和溅射台的购置由信息科学学院王漪教授申请，经费来源为北京市科学技术委员会科技计划课题项目经费。可行性论证专家组由中科院半导体所杨富华研究员、谢亮研究员，北京大学物理学院陈志坚教授、王福仁教授，北京市沃尔森律师事务所胡乾坤律师组成。