单一来源采购信息公示

申请人所在实验室主要从事低维电子学方面的研究，目前承担了低能耗二维 电子学的研究任务。研究需要实现高质量的二维半导体-金属接触界面与二维半导 体一栅介质界面，在研究的过程中，需要利用超高真空电子束蒸发镀膜仪来实现高 纯度、高致密性、低缺陷的金属电极薄膜与介质薄膜沉积，而要实现这些目的， 就需要超高真空电子束镀膜系统具备<9×10⁻mbar的极限真空度和<5°的电子束 蒸汽入射角(6”基片),这是因为较高的真空度和较小的入射角能够保证镀膜的 洁净度和均匀性。经过调研，目前只有布劳恩公司的OPTIvap 5型超高真空电子束蒸发镀膜仪能够满足研究的需要。因此，特申请以单一来源的方式进行采购。

单一来源公示2026年9月2日到2026年9月9日。