申请人所在实验室主要从事纳米电子材料、器件与集成方面的研究，目前承担了器件表界面原位真空互联制备与表征的研究任务；研究需要实现二维量子材料的界面钝化与掺杂。在研究的过程中，需要利用原子层沉积系统来实现纳米级别薄膜沉积（例如均匀度为1％，25nm沉积）。多数二维量子材料具有空气敏感性，需要在不同加工单元之间进行真空互联，同时在原子层沉积过程中需要避免腔体内的氧化污染。定制的Anric AT-410系统在样品的上游采用金属密封，减少了金属和氮化物膜中氧污染，与市场上的其他系统相比，该系统能够处理更多种类的薄膜材料。经过调研，目前只有Anric 的AT-410型“真空互联原子层沉积系统”能够满足研究的需要；因此，特申请以单一来源的方式进行采购。

    单一来源公示2024年8月1日到2024年8月8日。