北京大学化学院原子层沉积机。

申请人申请购置原子层沉积机，申请人所需原子层沉积系统是专门为了生长晶圆级高迁移率二维Bi₂O₂Se薄膜，与嘉兴科民公司共同研发，在原有系统进行上进行改进而来，具体关键改进如下：

1）设计多通道独立源，可用于非常规氧化物薄膜Bi₂O₃的生长；

2）体系中由于需要在高温条件下进行Se处理，因此对原有原子层沉积系统（ALD）的腔体、机械泵等关键设备进行了特殊的防腐蚀处理。

并且要求同时满足以下两个条件：4英寸晶圆上薄膜厚度非均匀性≤±1%；生长Bi₂O₃薄膜的介电常数>10。具有特有的根据要求可设计的扩充功能，经前期调研在预算范围内只有嘉兴科民电子设备技术有限公司满足以上要求，故该设备拟采用单一来源方式采购，由嘉兴科民电子设备技术有限公司承担。现将有关情况向潜在供应商征求意见。

征求意见期限从2017年11月8日起至2017年11月14日止。

潜在采购供应商对公示内容有异议的，请于公示期满前两个工作日内以实名书面（包括联系人、地址、联系电话）形式将意见反馈至北京大学实验室与设备管理部。

    地址：北京大学勺园5甲四楼409房间

    联系人：车轶彤，西鹏

    联系电话：010-62751411，010-62758587